霜点発生器
G3

ハイブリッド霜点発生器は、２温度2圧力の湿度発生原理の特徴を組み合わせたものです。

これらの原理を利用することで、昇圧したガスの流れは、所定の飽和温度で水の液相または固相に対して飽和します。

飽和槽の温度は、キャリアガスに混入される水蒸気の量を決定する主な要因です。また飽和槽内の圧力は、混合ガスのキャリアガス量を決定する主な要因です。

飽和槽から出ると、加湿されたガスの流れ（キャリアガスと混合された水蒸気から成る）は、より低い圧力まで膨張され、被試験装置（DUT）などの使用地点で別の温度に温められます。飽和槽内の圧力値と温度、および膨張後の圧力と温度（一般的にDUTにおいて）はガスの流れの湿度を決定するために使用されます。

湿度は、飽和槽内の温度と圧力の調整により正確に制御されます。

配管類、圧力レギュレーター、流量レギュレーター、飽和槽を密閉された真空チャンバー内に封じ込めた低湿度発生器です。

真空チャンバーを使用することで、大気中の水蒸気の浸透をなくし、熱的に制御されたコンポーネントやその周辺に断熱材を使用する必要がなくなります。
さらに、スターリングクライオクーラー（正確にはフリーピストンスターリングクーラー）が飽和槽の冷却に使用されます。
従来の設計に比べ、G3 は浸透効果の低減、断熱性の向上、制御、冷却の高速化、メンテナンスのしやすさにより、低湿度下での高精度と高性能が実現しています。

G3 は最大3 つの独立した流量制御ガス出力ラインを提供します。

各出口は最大5L/min の流量に対応でき、合計流量は最大10L/min となります。

高い効率の二重極低温冷却器により、G3 は1PPB 以下の超低湿度を発生させることができます。

水蒸気は多くのものを浸透します。特にバルブ、レギュレーター、その他のガス経路コンポーネント内に見られる、エラストマーやその他のシーリング材を浸透します。

G3では、浸透の影響を受けやすいバルブや部品は、真空チャンバー内に収納されています。

チャンバー内のガス分子が除去され真空度が高まると、真空チャンバー内の水蒸気も大幅に減少します。

これにより、通常浸透しやすい部品の外面から水蒸気が除去され、内部のガス経路の湿度に影響を与えるのを防ぐことができます。

飽和槽は、グラスファイバーやウレタンフォーム、その他の遮熱材といった標準的な断熱技術ではなく、高真空チャンバーの中心に設置されます。

熱エネルギーを伝達する分子が存在しない真空チャンバーは、優れた断熱効果を発揮します。

そのため、遮熱材を追加するのではなく、真空を利用して分子の相互作用を制限することで熱伝導を防いでいます。